Наши издания
Ионно-плазменные источники для плазмохимического синтеза функциональных покрытийКострин Д. К., Лисенков А. А., Кузьмичев А. И. Рассмотрены физико-химические особенности технологических процессов распыления графитового катода стационарным вакуумно-дуговым разрядом. Приведены этапы разработки модуля высокоэффективной системы ионно-плазменной очистки диэлектрических нетермостойких подложек потоками быстрых нейтральных частиц. Особое внимание уделено технологиям нанесения функциональных углеродных покрытий на диэлектрические поверхности большой площади. Издание предназначено для подготовки дипломированных специалистов и магистров физико-технических факультетов вузов, аспирантов и научных работников, специализирующихся в области низкотемпературной плазмы и ионно-плазменной технологии. Санкт-Петербург 2019 г. |
ISBN 978-5-7629-2523-5 УДК 533.9:621.387 ББК В333я7 |