Технология интегральных микросхем

Сост.: О. В. Александров, С. М. Быстров, А. В. Веселов, Л. А. Воробьёва, Т. М. Харькова

Представлены описания лабораторных работ по основным технологическим процессам изготовления интегральных микросхем: термическому окислению кремния, диффузионному легированию, ионной импланта­ции, плазмохимическому осаждению и фотолитографии.

Предназначены для студентов специальности 200300 «Электронные приборы и устройства» и направления 210100 «Электроника и нано-электроника», обучающихся по дневной, очно-заочной (вечерней) и заочной формам обучения.