Технологическое моделирование фрагмента ИМС

Сост. О. В. Александров

Представлены краткие сведения по моделированию основных технологических процессов изготовления ИМС: термического окисления слабо- и сильнолегированных слоев, ионной имплантации в одно- и двухслойной системах, ионного и диффузионного легирования с низкой и высокой концентрациями примеси, совместной диффузии легирующих примесей.

Предназначены для студентов специальности 210105 «Электронные при­боры и устройства» и направления 210100 «Электроника и наноэлектроника», обучающихся по дневной, очно-заочной (вечерней) и заочной формам обучения.