Наши издания
Физические основы ионной имплантацииВольпяс В. А., Комлев А. Е. Изложен материал первой части лекционного курса «Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники». Рассматриваются физические процессы взаимодействия ускоренных ионов с веществом. Для описания процесса ионной имплантации приводится ряд приближенных аналитических методов расчета, позволяющих оценить глубину проникновения и распределение имплантированных ионов в мишени. Предназначено для бакалавров факультета электроники, обучающихся по направлению «Микроэлектроника и наноэлектроника». Рассчитано также на студентов старших курсов физико-технических факультетов, аспирантов и научных работников, специализирующихся в области физики взаимодействия атомных частиц с атомами газа, плазмы и твердого тела. |
ISBN 978-5-7629-1390-4 УДК 621.38.002.22 (07) ББК 22.33 |