Наши издания

Физические основы ионной имплантации

Вольпяс В. А., Комлев А. Е.

Изложен материал первой части лекционного курса «Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники».

Рассматриваются физические процессы взаимодействия ускоренных ионов с веществом. Для описания процесса ионной имплантации приводится ряд приближенных аналитических методов расчета, позволяющих оценить глубину проникновения и распределение имплантированных ионов в мишени.

Предназначено для бакалавров факультета электроники, обучающихся по направлению «Микроэлектроника и наноэлектроника». Рассчитано также на студентов старших курсов физико-технических факультетов, аспирантов и научных работников, специализирующихся в области физики взаимодействия атомных частиц с атомами газа, плазмы и твердого тела.

ISBN 978-5-7629-1390-4

УДК 621.38.002.22 (07)

ББК 22.33