Моделирование процессов в вакууме и плазме

Барченко В. Т., Лисенков А. А., Павленко Т. С.

Рассматриваются подходы к моделированию приборов и устройств вакуумной и плазменной электроники, основные принципы математического моделирования процессов в вакууме и плазме, математическое моделирование полевых задач и аналитические методы их решения, математическое моделирование процессов при движении заряженных частиц в электрических и магнитных полях в вакууме и плазме.

Предназначено для студентов дневной формы обучения по направлению подготовки магистров 210100.68 «Электроника и наноэлектроника», профиль 210153.68 «Вакуумные и плазменные приборы и устройства».