Основы вакуумной и плазменной технологии. Взаимодействие частиц

Шаповалов В. И.

Содержит материал одноименной дисциплины, в которой излагаются физические основы технологических процессов, протекающих в нейтральных газовых средах или с участием газового разряда.

Предназначен для студентов факультета электроники, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника».